成分の概要と使用方法
Endogenous compound, skin conditioning, 0.01–0.1% typical; naturally occurring, safe at low levels, high levels may cause crystal irritation
各国インベントリでのステータス
| 中国 · 既存成分インベントリ | 04828 | leave-on 0.00017794% |
|---|---|---|
| EU · CosIng | 38843 | 功能 BUFFERING, SKIN CONDITIONING |
正確なINCI名でマッチングしています。塩類、エステル類、同義語は見逃される場合があります。最新の公式テキストが優先されます。
機能はEU CosIngおよび中国インベントリに基づくものです。刺激性・コメドジェニック値・評価は当社の独自解釈であり、規制上の結論ではありません。構造および分子データはPubChem出典です。
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